Intel ha ufficialmente inaugurato la nuova Fab 28 di Kiryat Gat, in Israele. La nuova fonderia sarà la prima a produrre chip con processo produttivo a 45 nm High-K e metal gate in grandi volumi, permettendo a Intel di superare i problemi di shortage nati nell’ultimo periodo.
La nuova fonderia, costata più di 3,5 miliardi di dollari, è il terzo impianto adibito alla produzione di chip a 45 nm; inaugurata in presenza del primo ministro israeliano Ehud Olmert fornirà lavoro a più di 6.000 specialisti di alto livello.
Intel ha da tempo una stretta collaborazione con Israele che, anche in questo caso, ha offerto un finanziamento superiore al miliardo di dollari per la realizzazione dell’impianto.